本项目结合半导体平板显示、IC及光伏等生产厂商对该领域核心设备中核心单元国产化替代的迫切需求，选择符合使用技术要求的国产材料，不再担心国外材料供货不及时或是规格型号不全，通过自主研发及与客户合作开发的模式，掌握了半导体平板显示及IC制造核心设备核心单元的关键技术，技术水平达到或超过了国外同类产品的技术水平，对国内TFT及IC生产设备的制造水平以及TFT显示器件的工艺技术水平起到了巨大的推动作用。同时，国产替代产品的成本优势和本地化快捷服务优势，对降低IC、TFT-LCD、OLED显示器件的生产成本起到了促进作用。打破了国外产品对于国内市场的垄断，有效推动我国半导体液晶产业的健康快速发展。
该项目的主要创新点为：1、根据半导体器件镀膜设备的需求，选出符合要求的国产材料，开发了物理气相沉积设备关键部件，实现了部分材料及部件国产化替代。2、研制出了一种直流磁控溅射镀膜设备的旋转靶材阴极真空驱动单元，与国外同类产品相比，具有密封特性好，免维护寿命长的特点。3、对物理气相沉积（PVD）镀膜设备非镀膜区域金属防着板单元进行了表面改造，配套开发了蒸镀设备防附着单元，降低了维护成本。
该项目研发了一系列具有自主知识产权的零部件，其中直流磁控溅射镀膜设备的旋转靶材阴极真空驱动单元达到了国内领先水平。
本项目已授权1项发明专利、66项实用新型、12项软件著作权、1项外观专利；已受理4项发明、26项实用新型，据此开发了面向直流磁控溅射镀膜设备的旋转靶材阴极真空驱动单元、面向物理气相沉积(PVD)镀膜设备非镀膜区域金属防着板单元、面向镀膜设备的大尺寸超薄玻璃基材承载装置单元、面向蒸镀设备防附着单元(evaporation & enclosure)、面向真空镀膜设备真空门阀装置（Lock Valve），上机运行稳定、可靠性高，成功应用于京东方科技集团、TCL华星光电、中国电子集团、惠科股份、信利光学、柔宇科技、维信诺等，产品经过在客户端运行，性能和国外原厂一样甚至更高、安全稳定，保障了各厂商生产线安全稳定运行，得到了用户的一致好评。

本项目在实现半导体核心装备国产化过程中，意义重大，经济和社会效益显著，应用前景广阔。